ابتكارات تتحدى الضغوط.. تقديم أربعة أجهزة استراتيجية للبحث والصناعة

ووفقا لوكالة انباء آنا، لدى أجهزة إنتاج شركة الطلاء النانوية لها تطبيقات واسعة في مجالات مثل الإلكترونيات والبصريات والمجهر الإلكتروني وأجهزة الاستشعار الدقيقة وحتى الخلايا الشمسية، وتعتبر أداة استراتيجية لمعاهد البحوث والجامعات والمراكز الصناعية في البلاد.

لقد استجابت آلة الترسيب بالتبخر الحراري المكتبي، وآلة الرش المكتبية، ونظام الترسيب المشترك بالليزر النبضي والتبخير الحراري، وآلة ترسيب الكربون المكتبي، كل منها بخصائصها الخاصة، لبعض الاحتياجات المتخصصة في مجال هندسة السطح.

*جهاز التبخير الحراري المكتبي (نموذج DTT): طلاء دقيق بأبعاد نانومترية

يعد الترسيب بالتبخر الحراري أحد أكثر الطرق شيوعًا ولكنها لا تزال مستخدمة على نطاق واسع لإنشاء طلاءات رقيقة. قامت شركة يوشش‌های نانوساختار، بتصميم نموذج DTT لتوفير هذه العملية في شكل جهاز سطح مكتب مضغوط وموثوق.

في هذه الطريقة يتم وضع المادة المصدر والتي عادة ما تكون معدن أو شبه موصل أو حتى سيراميك في حجرة مفرغة من الهواء ويتم تمرير تيار كهربائي كبير من خلالها عن طريق خيط. يؤدي هذا التدفق إلى تسخين شديد وتبخر المادة في النهاية. ونتيجة لاختلاف الضغط في الفراغ فإن الذرات المتبخرة تتحرك نحو الركيزة وتستقر عليها.

تتضمن التطبيقات الرئيسية لهذا الجهاز إنتاج طبقات رقيقة موصلة للكهرباء، وتصنيع الطلاءات متعددة الطبقات لأجهزة الاستشعار والأجهزة الإلكترونية، وترسيب المعادن والسيراميك وأشباه الموصلات.

التصميم المدمج لهذا الجهاز يجعله خيارًا مناسبًا لمعاهد الأبحاث والجامعات التي تعاني من قيود المساحة ولكنها لا تزال بحاجة إلى أجهزة دقيقة للترسيب النانومتري.

*آلة الرش المكتبية (الطرازات DSR1 وDST1-L وDST3-T وDST3-A): مرونة في اختيار الطلاء

تعتبر عملية الرش إحدى أكثر الطرق دقة لإنشاء طبقات رقيقة في عالم تكنولوجيا النانو. في هذه الطريقة يتم فصل ذرات الطلاء عن سطح الهدف باستخدام البلازما وتسريعها نحو الركيزة.

أنتجت شركة بوشش‌های نانوساختار، عائلة من أجهزة الرش المكتبية، يتم تقديم كل منها في طرازات الكاثود واحد أو اثنين أو ثلاثة، اعتمادًا على احتياجات المستخدمين. يمكن استخدام هذه الأجهزة لمجموعة واسعة من المواد الموصلة وشبه الموصلة والعازلة وتتمتع بمرونة عالية في التحكم في معلمات العملية.

تتضمن قدرات وتطبيقات هذا الجهاز ترسيب النانو مركبات والبنى النانوية، وتصنيع الخلايا الشمسية ذات الأغشية الرقيقة، وإنتاج الأجهزة النانوية الإلكترونية والميكروإلكترونية، وإعداد العينات المناسبة للمجهر الإلكتروني.

ومن بين مزايا هذا الجهاز القدرة على ضبط المعلمات بدقة مثل طاقة الكاثود، وضغط الغاز العامل، ووقت الترسيب، وسرعة دوران الركيزة، مما يسمح بالتكرار والتحكم الدقيق في خصائص الطبقة.

*آلة الترسيب بالتبخر الحراري بالليزر النبضي المركب (طراز PLD-T): مرونة لا مثيل لها للمواد المعقدة

يعد الجمع بين طريقتين للترسيب في جهاز واحد خطوة مهمة في زيادة إنتاجية ومرونة المعدات. يعد نموذج PLD-T أحد المنتجات المتقدمة لشركة بوشش‌های نانوساختار والذي يستخدم آليتين: التبخير بالليزر النبضي (PLD) والتبخير الحراري في نظام الفراغ.

في طريقة PLD، يتم توجيه شعاع ليزر قوي بنبضات قصيرة (أقل من بضعة نانوثانية) إلى سطح المادة المستهدفة وتبخيرها. بفضل طاقتها العالية والتحكم القياسي، تعد هذه الطريقة مناسبة جدًا لتصنيع طبقات ذات تركيبات كيميائية دقيقة ومعقدة. ومن ناحية أخرى، يحتوي هذا النظام على ثلاث بوتقات حرارية لإجراء التبخير الحراري المتزامن أو المتسلسل، مما يزيد من تطبيقاته في تصنيع الطبقات متعددة المكونات والمتنوعة والمنظمة.

ومن بين الميزات البارزة لهذا الجهاز هي القدرة على ترسيب المواد المعقدة ومتعددة العناصر، والتبخير الدقيق مع الحد الأدنى من التغيير في التركيب الكيميائي، والمناسبة لتصنيع الموصلات الفائقة والمواد المغناطيسية والمحفزات الضوئية، والتحكم الكامل في معلمات العملية في كل من الوضعين PLD والحراري.

إن وجود هاتين التقنيتين في جهاز واحد يوفر فرصًا فريدة لتصميم الطلاءات ذات الخصائص البصرية والكهربائية والميكانيكية الفريدة.

*آلة الترقق الكربونية المكتبية (طرازات DCR وDCT): حل احترافي للتصوير الإلكتروني

لقد كان تحضير العينات العازلة للتصوير باستخدام المجهر الإلكتروني الماسح دائمًا تحديًا أساسيًا في أبحاث الأسطح والمواد. استجابت شركة بوشش‌های نانوساختار لهذه الحاجة المتخصصة من خلال إنتاج نماذج DCR و DCT لآلات ترسيب الكربون المكتبية.

في هذه الطريقة يتم وضع خيط أو قضيب كربون بين قطبين عاليي التيار في غرفة التفريغ، وعندما يمر تيار قوي يتبخر الكربون ويستقر على العينة. يؤدي تدوير الركيزة أثناء الترسيب إلى إنشاء طبقة موحدة وخاضعة للرقابة.